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Tantal Ta

Tantal ist ein seltenes, hartes, blaugraues, glänzendes Übergangsmetall mit hoher Korrosionsbeständigkeit. Es gehört zur Gruppe der hochschmelzenden Metalle, die häufig als Nebenbestandteile in Legierungen verwendet werden. Außerdem ist es bei hohen Temperaturen sehr duktil, sehr hart und verfügt über hervorragende thermische und elektrische Leitereigenschaften. Sein Schmelzpunkt von 2.996 °C ist der vierthöchste aller Metalle. Die chemische Inertheit von Tantal macht es zu einem wertvollen Stoff für Laborgeräte und zu einem Ersatz für Platin. Heutzutage wird es jedoch hauptsächlich in Tantalkondensatoren in elektronischen Geräten wie Mobiltelefonen, DVD-Playern, Videospielsystemen und Computern verwendet.

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Unsere Produkte

Rein Tantal Metall: Reinheit: Ta≥99,95%

Tantal Wolfram Legierung

Tantal Niob Legierung

Tantal Verbindungen:

Tantal Oxid Pulver (Tantal Pentoxid, Ta2O5): 99,9%-99,99% rein

Tantal Chlorid Pulver (Tantal Pentachlorid, TaCl5): >99,9 %

Tantal Carbid Pulver (TaC): >99%

Tantal Silizid Pulver(TaSi2) : >99,9 %

Lithium Tantalat Wafer (LiTaO3 Wafer)

Tantal oxid pulver, auch bekannt als tantal pentoxid pulver (Ta2O5 pulver), ist weißes kristallines pulver. Als amphoteres oxid, Ta2O5 pulver ist unlöslich in Wasser und schwer löslich in Flusssäure. Tantalpentoxidpulver ist thermisch stabil und ist auch stabil in Keramikstrukturen.

Spezifikation für unser Tantalpentoxid Pulver
CAS#: 1314-61-0, nicht gefährlich, löslich in HF, Reinheit: 99,9%~99,999%
Weiß Pulver, F.W. 441,98, Schmelzpunkt 1800 °C, Spez. Schwerkraft 8,2 gm/cm3

Artikel Nr.	Beschreibung	Reinheit
OXTa-3N	Tantal (V) Pentoxid Pulver -60 mesh, -100mesh, -200mesh, D90<15μm, usw.	Ta2O5≥99,9%
OXTa-4N	Tantal Pentoxid Pulver -60 mesh, -100mesh, -200mesh, D90<15μm, usw.	Ta2O5≥99,99%
OXTa-4N5	Tantal Oxid Pulver -60 mesh, -100mesh, -200mesh, usw.	Ta2O5≥99,995%

Bitte geben Sie die Partikelgrößenanforderungen an, wenn Sie uns eine Anfrage zu Pulvermaterialien senden.

Chemische Zusammensetzung für jede Sorte von Ta2O5 Pulver

Grad		OXTa-4N5	OXTa-4N	OXTa-3N
Hauptsächlich (%, ≥)	Ta2O5	99,995	99,99	99,9
Verunreinigungen (%, ≤)	Nb	0,0003	0,0010	0,0030
	Al	0,0002	0,0004	0,0005
	Als	0,00005	0,0001	0,0010
	B	0,0001	0,0001	--
	Bi	0,0001	0,0002	0,0005
	Ca	0,0003	0,0005	--
	Co	0,00005	0,0001	--
	Cr	0,0001	0,0003	0,0005
	Cu	0,0001	0,0003	0,0005
	F	0,0060	0,0070	0,010
	Fe	0,0003	0,0005	0,0010
	K	0,0003	0,0005	--
	Mg	0,0002	0,0003	--
	Mn	0,0001	0,0002	0,0005
	Mo	0,0001	0,0002	0,0008
	N / A	0,0005	0,0010	--
	Ni	0,0001	0,0003	0,0010
	Pb	0,0003	0,0003	0,0010
	Sb	0,0005	0,0010	--
	Si	0,0008	0,0013	0,0030
	Sn	0,0001	0,0001	0,0005
	Ti	0,0001	0,0001	0,0005
	V	0,00005	0,0001	--
	W	0,0002	0,0003	0,0005
	Zr	0,0001	0,0001	--

Anwendungen

-Tantal Oxid Pulver hat ferroelektrische Eigenschaften
-UV Laseranwendungen kombiniert in Multischichten mit Silizium dioxid
-Filmkondensatoren, als Gate-Isolatoren in großintegrierten Schaltkreisen

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